ナノインプリント

スタンダードモスアイ金型解説その3

スタンダードモスアイ金型解説その1
スタンダードモスアイ金型解説その2 

間隔が開いてしまいましたが、今回はスタンダードモスアイ金型の個数についてです。

     

スタンダードモスアイ金型のHT-AR-05Aでは、ピッチ250nm、ピーク間距離290nmでハニカム構造の配列を取っています。この場合の一つの六角形の面積は0.0725µ㎡と計算することができます。

○1mm角の正方形に敷き詰めたとすると…
13,793,103個(約1,380万個)= 東京都の人口(1,322万人)とほぼ同じ

○1cm角の正方形に敷き詰めたとすると…
1,379,310,300個(13.8億個)= 日本の総人口(1.3億人)の10倍

○スタンダード金型HT-AR-05A(10cm x 10cm)上にあるモスアイ構造の数は…
137,931,030,000個(1,380億個)= 人間の脳のニューロンの推定数(1,000億個)よりも多い

有効範囲が280mm角のHT-AR-05Cまで行くと1兆個を超える計算になります。
干渉リソグラフィ工法にでは、この様な膨大な個数のモスアイ構造を一括にかつ均一に描画できるのが大きな特徴です。

セミナー ナノインプリント 機能性フィルム

7月ナノインプリント講演予定

7月のセミナー講演は加飾フィルム関連で機能性フィルムとナノインプリントフィルムについてを講演する予定となります。大阪での開催となりますが、ご検討いただければと思います。

R&D支援センター主催にて開催されます「プラスチック表面への3次元加飾技術」セミナーにおきまして、第2部として「プラスチック加飾に向けた高機能フィルムの開発」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年7月10日(水)10:30-16:00
受講料:49,980円 (税込、昼食・資料付き)
会 場:ドーンセンター 4F 大会議室3 【大阪・中央区】/地図
<京阪>「天満橋」駅下車。東口方面の改札から地下通路を通って1番出口より東へ約350m。
<地下鉄谷町線>「天満橋」駅下車。1番出口より東へ約350m。
<JR 東西線>「大阪城北詰」駅下車。2番出口より土佐堀通り沿いに西へ約550m。
詳 細:http://www.rdsc.co.jp/seminar/130726.html

セミナー ナノインプリント

6月ナノインプリント講演予定

会場が変更になりました。

5/21に開催されました電子ジャーナル社主催セミナーに参加いただきまして誠に有難うございました。

6月にもセミナー講演の予定があり、今回は大阪での開催となりますが、ご検討いただければと思います。
6/13(木)にR&D支援センター主催にて開催されます「有機ELの技術動向と光取り出し向上技術 」セミナーにおきまして、第3部として「ナノインプリントを用いた微細加工技術による有機ELの光取り出し向上」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年6月13日(木)10:00-16:00
受講料:49,980円 (税込、昼食・資料付き)
会 場:エル大阪 5F 504【大阪・中央区】/地図 
<京阪>地下鉄谷町線「天満橋駅」より西へ300m
<京阪>地下鉄堺筋線「北浜駅」より東へ500m
<地下鉄>御堂筋線「淀屋橋駅」より東へ1,200m
<JR>東西線「大阪天満宮駅」より南へ850m
詳 細:http://www.rdsc.co.jp/seminar/130620.html

セミナー ナノインプリント

4月ナノインプリント講演予定

4/24(水)・25(木)にサイエンス&テクノロジー主催にて開催されます「タッチパネル表面のフィルム、コーティング材料・技術の動向 」セミナーにおきまして、4/24の第3部として「反射防止加工フィルムの開発とタッチパネルへの展開」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年4月24日(水)10:30-16:30
2013年4月25日(木)12:30-16:45
受講料:63,000円   ( S&T会員受講料   59,800円 )
資料・昼食(24日のみ)付
会 場:東京・大田区蒲田 大田区産業プラザ(PiO)  1F A+B会議室/地図
<京急蒲田線> ●「京急蒲田駅」(東口)より徒歩3分
<JR京浜東北線> ●「蒲田駅」(東口)より徒歩15分
詳 細:http://www.science-t.com/st/cont/id/21166

 

セミナー ナノインプリント

5月ナノインプリント講演予定

5/21(火)に電子ジャーナル主催「Electronic Journal 第1711回 Technical Seminar モスアイ型反射防止膜の基礎と応用★徹底解説 ~反射防止膜の各種形成法・大面積化・応用を詳解~」セミナーにおきまして、「大面積モスアイ構造形成技術とその応用」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年5月21日(火)10:10-16:40
受講料:47,500円(テキスト代/昼食代/消費税含む)
定 員:20名
会 場:連合会館(東京・御茶ノ水)/地図
●JR
JR中央線・総武線 御茶ノ水駅 聖橋出口
●地下鉄
東京メトロ千代田線 新御茶ノ水駅 B3出口
東京メトロ丸の内線 淡路町駅   B3出口
都営地下鉄新宿線  小川町駅   B3出口
詳 細:http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/1711.html

 

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013

弊社ブースにお立ち寄りいただき、誠にありがとうございました。
皆様のおかげをもちまして盛況のうちに執り行うことができましたことを心よりお礼申し上げます。

新たな光取出し構造のスタンダード化も検討しておりますので、詳細が決まりましたらご案内致します。
また、5月頃にモスアイに関するセミナー講演を予定しています。こちらも詳細が決まりましたらご案内致します。

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013開幕


メイン通り沿いのオレンジ色のカーペットが目印です。
是非ともお立ち寄りください。

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013前日


ブース設営が完了しました。
反射防止機能や光取出し機能についてやナノインプリント金型・フィルムについての課題などありましたら、弊社ブース(小間番号:6H-20)にお立ち寄り下さい。

 

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013出展のお知らせ②

2013年1月30日(水)~2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されますnano tech 2013の holotools社(6H-20)ブースにて出展します。
ブース位置はドイツパビリオン内ですが、会場フロアMAPにはドイツパビリオン内の詳細の記載がありませんでしたので、詳細MAPを掲載します。

会場フロアMAP: http://www.nanotechexpo.jp/pdf/floormap2013_j.pdf

ドイツパビリオン詳細MAP:

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013出展のお知らせ

2013年1月30日(水)~2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されます「nano tech 2013 第12回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会」に出展致します。

  • 日時:2013年1月30日(水) ~2月1日(金) 10:00 ~ 17:00
  • 会場:東京ビッグサイト東4・5・6ホール&会議棟
  • 入場料:3,000円(但し、Webサイトで事前登録された方は入場無料)
  • 公式ホームページ:http://www.nanotechexpo.jp/
  • 弊社ブース:東6ホール ドイツパビリオン内 6H-20
    ※ブース位置の詳細はちら

出展のみどころ

微細構造付与による機能向上効果などで注目を集めるナノインプリント。弊社イノックスは世界屈指の技術力を有するパートナーと提携し、業界をリードするナノ~マイクロの微細構造研究開発を積極的に行なっております。光の透過率を落さずに光を拡散させる構造、反射防止性能構造、光の集光及び取り出し構造などのモールド大面積化、フィルムやシートの量産化などをご提案。ナノ~マイクロ構造を用い、市場の要求仕様に応えた「コンセプトモデル」の展示を予定しております。

ナノ・マイクロ構造をご検討中、もしくは具体的な要求仕様などございましたら、是非、弊社ブースまでご来場いただき是非ご相談下さい。

 

ナノ・マイクロ構造

  • 反射防止機能(モスアイ構造)
  • マイクロレンズ構造
  • 有機EL光取出し効率向上
  • 太陽電池集光効率向上
  • ライトガイド・プレート
  • カスタマイズ設計構造