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カスタマイズ微細構造加工サービス

◆概要


弊社がこれまで培ってきたナノインプリントとマイクロレンズ関連技術を駆使し、お客様の望むカスタマイズ微細構造を再現する加工サービスです。

初期検討段階での複数の微細構造を金型もしくはフィルムにて再現し、ご評価頂くことで微細構造の選定や最適化に役立てることもできます。

また、構造や光学機能によっては、弊社のこれまで培ってきた知見を用いた設計の提案も可能な場合もございますので、お気軽にご相談ください。

微細構造の再現には、工法の開発によりマイクロレベルで設計された構造のモールド作製が可能となりました。

マイクロレンズアレイやレンチキュラーレンズをはじめ、球面形状から非球面形状レンズやその他のユニークな構造まで幅広い設計に対応が可能です。

⇒下記のお問い合わせフォームからお問い合わせ下さい。

◆ご提供可能なサービス


  • カスタマイズ微細構造金型の加工
  • 微細構造金型を用いたインプリントフィルムの加工
  • 簡易評価方法・装置のご提案
  • 光学系設計・シミュレーション(開発中)のご提案

◆基本的な流れ


 

◆カスタマイズ微細構造金型の加工仕様


  • マスター材料:フォトレジスト
  • 加工精度:0.5μm
  • 構造サイズ:0.8μm~1mm
  • 構造高さ:1μm~50μm
  • パターン面積:最大200mm x 200mm
  • ※構造によって最大サイズは異なります。
  • モールド材料:ニッケル、フォトレジスト、樹脂

この他にも希望される構造に合わせてカスタマイズ可能ですので、お気軽にお問い合わせ下さい。

◆開発事例


 マイクロレンズ形状の精度向上

モスアイ構造のシミュレーション

準備中

◆加工例


ライン&スペース

ライン&スペース構造の場合では、0.8µm程度の凹凸構造の作製が可能です。

レンズなどの複雑形状の場合には、より細かい解像度にて作製されます。

①ライン/スペース=0.8µm/0.8µm

 

②ライン/スペース=1.6µm/1.6µm


③ライン/スペース=3.2µm/3.2µm


④ライン/スペース=10µm/10µm

 
 



ドットパターン

①0.6µm           ②0.8µm               ③1.0μm

 



マイクロレンズアレイ

底面のないフルパックのマイクロレンズアレイを高精度で再現することが可能です。レンズの形状は任意に設計することも可能で、三角形、四角形、六角形、ランダムにも対応可能です。

四角形MLA

 

◆設計例


マイクロレンズアレイ

①レンズ形状設計

・四角形配列

・六角形配列

②レンズ配置設計

ランダム性の分布を制御することも可能です。

◆お問い合わせフォーム





    カスタマイズパターンについて、仕様がありましたらお知らせください。


    µmmm


    µmmm


    mm x mm

    セミナー ナノインプリント

    【2019/5/21】ナノインプリント講演予定

    2019年5月21日に技術情報協会主催にて開催されます「透明材料,光学材料などの屈折率制御におけるメカニズム,複合化や表面改質,測定評価」セミナーにおきまして、「微細凹凸構造 光学フィルムの屈折率制御」をテーマに講演いたしまします。

    【講演の主旨】 ナノインプリントとは、ナノサイズの構造を持った金型から樹脂に構造を転写する技術であり近年注目を集めている。構造がナノサイズになると可視光の波長より小さくなることにより、例えばモスアイ構造のような反射防止効果を発揮する事が可能となる。本セミナーでは、モスアイ構造による屈折率制御と反射防止機能について紹介し、ナノインプリントの量産化の要素となる金型や加工方法等についても解説する。

    【セミナー詳細】
    題 名:透明材料,光学材料などの屈折率制御におけるメカニズム,複合化や表面改質,測定評価
    主 催:技術情報協会
    講 師:6名
    日 時:2019年5月20日(月)10:30~16:50
        2019年5月21日(火)10:00~16:50
    受講料:1名につき70,000円(消費税抜,昼食(2日間)・資料付)
        ※講師からの紹介割引として、20%割引も可能ですのでお問い合わせ下さい。
    会 場:[東京・五反田]日幸五反田ビル8F
        技術情報協会セミナールーム/地図
        <JR山手線>五反田駅 徒歩5分
        <都営地下鉄・浅草線>五反田駅 徒歩5分
        <東急池上線>大崎広小路駅 徒歩5分
    詳 細:http://www.gijutu.co.jp/doc/s_905203.htm

    本セミナーのマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。

    ナノインプリント

    生体模倣技術について

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    【2014/7/11】ナノインプリント講演予定

    先日のセミナー講演予定ですが、テーマが「生体模倣・その効果とデバイス/フィルムへの応用」であり、生体模倣が一つのキーワードとなっています。
    今月12日の中日新聞にて生体模倣技術(バイオミメティクス)についての記事が出ていたのを思い出し掲載しました。記事によると生体模倣技術については、海外(アメリカ、ドイツ、フランス)では産学官連携の機関が作られているが、日本にはまだ作られていないとのことです。そこで日本でも機関を設立する動きが出てきたようです。
    弊社で扱っているモスアイ構造も蛾の目を生体模倣した構造となっおり、目が離せない業界の動きとなっています。

     
    モスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
    01ナノインプリント事業部

    ナノインプリント

    日経エレクトロニクス3月17日号

    NikkeiNE日経エレクトロニクス3月17日号にてナノインプリントについての特集が組まれています。「ナノインプリントに新風大面積化で用途も拡大」のテーマで大面積化に焦点を当てた内容になっています。弊社も取材を受け一部記事に取り上げられています。各社のナノインプリントに関する動向が分かりやすく解説されています。

    セミナー ナノインプリント

    【2/25】『ナノインプリントの応用展開と量産化技術』セミナーを実施しました

    電子ジャーナル主催の「ナノインプリントの応用展開と量産化技術」セミナーにて講演を行いました。
    講演は、ナノインプリント技術を用いた最新の量産化工法のロールtoロール装置、大面積金型、UV硬化樹脂についての解説をしました。製品化や量産化における課題や対策についてやモスアイやマイクロレンズ構造などの特徴・機能の他、応用可能なアプリケーションについても紹介しました。

    本セミナーのマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
    01ナノインプリント事業部

    ナノインプリント

    スタンダードモスアイ金型解説その3

    スタンダードモスアイ金型解説その1
    スタンダードモスアイ金型解説その2 

    間隔が開いてしまいましたが、今回はスタンダードモスアイ金型の個数についてです。

         

    スタンダードモスアイ金型のHT-AR-05Aでは、ピッチ250nm、ピーク間距離290nmでハニカム構造の配列を取っています。この場合の一つの六角形の面積は0.0725µ㎡と計算することができます。

    ○1mm角の正方形に敷き詰めたとすると…
    13,793,103個(約1,380万個)= 東京都の人口(1,322万人)とほぼ同じ

    ○1cm角の正方形に敷き詰めたとすると…
    1,379,310,300個(13.8億個)= 日本の総人口(1.3億人)の10倍

    ○スタンダード金型HT-AR-05A(10cm x 10cm)上にあるモスアイ構造の数は…
    137,931,030,000個(1,380億個)= 人間の脳のニューロンの推定数(1,000億個)よりも多い

    有効範囲が280mm角のHT-AR-05Cまで行くと1兆個を超える計算になります。
    干渉リソグラフィ工法にでは、この様な膨大な個数のモスアイ構造を一括にかつ均一に描画できるのが大きな特徴です。

    セミナー ナノインプリント

    6月ナノインプリント講演予定

    会場が変更になりました。

    5/21に開催されました電子ジャーナル社主催セミナーに参加いただきまして誠に有難うございました。

    6月にもセミナー講演の予定があり、今回は大阪での開催となりますが、ご検討いただければと思います。
    6/13(木)にR&D支援センター主催にて開催されます「有機ELの技術動向と光取り出し向上技術 」セミナーにおきまして、第3部として「ナノインプリントを用いた微細加工技術による有機ELの光取り出し向上」をテーマに講演いたしまします。

    日 時:2013年6月13日(木)10:00-16:00
    受講料:49,980円 (税込、昼食・資料付き)
    会 場:エル大阪 5F 504【大阪・中央区】/地図 
    <京阪>地下鉄谷町線「天満橋駅」より西へ300m
    <京阪>地下鉄堺筋線「北浜駅」より東へ500m
    <地下鉄>御堂筋線「淀屋橋駅」より東へ1,200m
    <JR>東西線「大阪天満宮駅」より南へ850m
    詳 細:http://www.rdsc.co.jp/seminar/130620.html

    セミナー ナノインプリント

    4月ナノインプリント講演予定

    4/24(水)・25(木)にサイエンス&テクノロジー主催にて開催されます「タッチパネル表面のフィルム、コーティング材料・技術の動向 」セミナーにおきまして、4/24の第3部として「反射防止加工フィルムの開発とタッチパネルへの展開」をテーマに講演いたしまします。

    日 時:2013年4月24日(水)10:30-16:30
    2013年4月25日(木)12:30-16:45
    受講料:63,000円   ( S&T会員受講料   59,800円 )
    資料・昼食(24日のみ)付
    会 場:東京・大田区蒲田 大田区産業プラザ(PiO)  1F A+B会議室/地図
    <京急蒲田線> ●「京急蒲田駅」(東口)より徒歩3分
    <JR京浜東北線> ●「蒲田駅」(東口)より徒歩15分
    詳 細:http://www.science-t.com/st/cont/id/21166

     

    セミナー ナノインプリント

    5月ナノインプリント講演予定

    5/21(火)に電子ジャーナル主催「Electronic Journal 第1711回 Technical Seminar モスアイ型反射防止膜の基礎と応用★徹底解説 ~反射防止膜の各種形成法・大面積化・応用を詳解~」セミナーにおきまして、「大面積モスアイ構造形成技術とその応用」をテーマに講演いたしまします。

    日 時:2013年5月21日(火)10:10-16:40
    受講料:47,500円(テキスト代/昼食代/消費税含む)
    定 員:20名
    会 場:連合会館(東京・御茶ノ水)/地図
    ●JR
    JR中央線・総武線 御茶ノ水駅 聖橋出口
    ●地下鉄
    東京メトロ千代田線 新御茶ノ水駅 B3出口
    東京メトロ丸の内線 淡路町駅   B3出口
    都営地下鉄新宿線  小川町駅   B3出口
    詳 細:http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/1711.html

     

    ナノインプリント 展示会

    nano tech 2013

    弊社ブースにお立ち寄りいただき、誠にありがとうございました。
    皆様のおかげをもちまして盛況のうちに執り行うことができましたことを心よりお礼申し上げます。

    新たな光取出し構造のスタンダード化も検討しておりますので、詳細が決まりましたらご案内致します。
    また、5月頃にモスアイに関するセミナー講演を予定しています。こちらも詳細が決まりましたらご案内致します。