シンガポール国家材料工学研究所（IMRE）主催で5/23（水）にシンガポールで開催される「6th Industrial Symposium on Nanoimprint Lithography」のプログラムの追加情報です。

日 時 ： 2012年5月23日(水) 9：00～16：00
会 場 ： Seminar Room 1 Institute of Materials Research and Engineering
参加費 ： free
弊社講演：14：00　A Large Scaled Moth-Eye Film Development and Its Application

参加の申し込みやお問い合わせは弊社にご連絡いただくか、下記URLからお願いします。
http://www.imre.a-star.edu.sg/events.php?id=B531O538N534