Tag Archives: モスアイ

ナノインプリント

生体模倣技術について

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【2014/7/11】ナノインプリント講演予定

先日のセミナー講演予定ですが、テーマが「生体模倣・その効果とデバイス/フィルムへの応用」であり、生体模倣が一つのキーワードとなっています。
今月12日の中日新聞にて生体模倣技術(バイオミメティクス)についての記事が出ていたのを思い出し掲載しました。記事によると生体模倣技術については、海外(アメリカ、ドイツ、フランス)では産学官連携の機関が作られているが、日本にはまだ作られていないとのことです。そこで日本でも機関を設立する動きが出てきたようです。
弊社で扱っているモスアイ構造も蛾の目を生体模倣した構造となっおり、目が離せない業界の動きとなっています。

 
モスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
01ナノインプリント事業部

ナノインプリント

日経エレクトロニクス3月17日号

NikkeiNE日経エレクトロニクス3月17日号にてナノインプリントについての特集が組まれています。「ナノインプリントに新風大面積化で用途も拡大」のテーマで大面積化に焦点を当てた内容になっています。弊社も取材を受け一部記事に取り上げられています。各社のナノインプリントに関する動向が分かりやすく解説されています。

セミナー ナノインプリント

【2/25】『ナノインプリントの応用展開と量産化技術』セミナーを実施しました

電子ジャーナル主催の「ナノインプリントの応用展開と量産化技術」セミナーにて講演を行いました。
講演は、ナノインプリント技術を用いた最新の量産化工法のロールtoロール装置、大面積金型、UV硬化樹脂についての解説をしました。製品化や量産化における課題や対策についてやモスアイやマイクロレンズ構造などの特徴・機能の他、応用可能なアプリケーションについても紹介しました。

本セミナーのマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
01ナノインプリント事業部

ナノインプリント

スタンダードモスアイ金型解説その3

スタンダードモスアイ金型解説その1
スタンダードモスアイ金型解説その2 

間隔が開いてしまいましたが、今回はスタンダードモスアイ金型の個数についてです。

     

スタンダードモスアイ金型のHT-AR-05Aでは、ピッチ250nm、ピーク間距離290nmでハニカム構造の配列を取っています。この場合の一つの六角形の面積は0.0725µ㎡と計算することができます。

○1mm角の正方形に敷き詰めたとすると…
13,793,103個(約1,380万個)= 東京都の人口(1,322万人)とほぼ同じ

○1cm角の正方形に敷き詰めたとすると…
1,379,310,300個(13.8億個)= 日本の総人口(1.3億人)の10倍

○スタンダード金型HT-AR-05A(10cm x 10cm)上にあるモスアイ構造の数は…
137,931,030,000個(1,380億個)= 人間の脳のニューロンの推定数(1,000億個)よりも多い

有効範囲が280mm角のHT-AR-05Cまで行くと1兆個を超える計算になります。
干渉リソグラフィ工法にでは、この様な膨大な個数のモスアイ構造を一括にかつ均一に描画できるのが大きな特徴です。

セミナー ナノインプリント

6月ナノインプリント講演予定

会場が変更になりました。

5/21に開催されました電子ジャーナル社主催セミナーに参加いただきまして誠に有難うございました。

6月にもセミナー講演の予定があり、今回は大阪での開催となりますが、ご検討いただければと思います。
6/13(木)にR&D支援センター主催にて開催されます「有機ELの技術動向と光取り出し向上技術 」セミナーにおきまして、第3部として「ナノインプリントを用いた微細加工技術による有機ELの光取り出し向上」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年6月13日(木)10:00-16:00
受講料:49,980円 (税込、昼食・資料付き)
会 場:エル大阪 5F 504【大阪・中央区】/地図 
<京阪>地下鉄谷町線「天満橋駅」より西へ300m
<京阪>地下鉄堺筋線「北浜駅」より東へ500m
<地下鉄>御堂筋線「淀屋橋駅」より東へ1,200m
<JR>東西線「大阪天満宮駅」より南へ850m
詳 細:http://www.rdsc.co.jp/seminar/130620.html

セミナー ナノインプリント

4月ナノインプリント講演予定

4/24(水)・25(木)にサイエンス&テクノロジー主催にて開催されます「タッチパネル表面のフィルム、コーティング材料・技術の動向 」セミナーにおきまして、4/24の第3部として「反射防止加工フィルムの開発とタッチパネルへの展開」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年4月24日(水)10:30-16:30
2013年4月25日(木)12:30-16:45
受講料:63,000円   ( S&T会員受講料   59,800円 )
資料・昼食(24日のみ)付
会 場:東京・大田区蒲田 大田区産業プラザ(PiO)  1F A+B会議室/地図
<京急蒲田線> ●「京急蒲田駅」(東口)より徒歩3分
<JR京浜東北線> ●「蒲田駅」(東口)より徒歩15分
詳 細:http://www.science-t.com/st/cont/id/21166

 

セミナー ナノインプリント

5月ナノインプリント講演予定

5/21(火)に電子ジャーナル主催「Electronic Journal 第1711回 Technical Seminar モスアイ型反射防止膜の基礎と応用★徹底解説 ~反射防止膜の各種形成法・大面積化・応用を詳解~」セミナーにおきまして、「大面積モスアイ構造形成技術とその応用」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年5月21日(火)10:10-16:40
受講料:47,500円(テキスト代/昼食代/消費税含む)
定 員:20名
会 場:連合会館(東京・御茶ノ水)/地図
●JR
JR中央線・総武線 御茶ノ水駅 聖橋出口
●地下鉄
東京メトロ千代田線 新御茶ノ水駅 B3出口
東京メトロ丸の内線 淡路町駅   B3出口
都営地下鉄新宿線  小川町駅   B3出口
詳 細:http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/1711.html

 

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013

弊社ブースにお立ち寄りいただき、誠にありがとうございました。
皆様のおかげをもちまして盛況のうちに執り行うことができましたことを心よりお礼申し上げます。

新たな光取出し構造のスタンダード化も検討しておりますので、詳細が決まりましたらご案内致します。
また、5月頃にモスアイに関するセミナー講演を予定しています。こちらも詳細が決まりましたらご案内致します。

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013前日


ブース設営が完了しました。
反射防止機能や光取出し機能についてやナノインプリント金型・フィルムについての課題などありましたら、弊社ブース(小間番号:6H-20)にお立ち寄り下さい。

 

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013出展のお知らせ②

2013年1月30日(水)~2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されますnano tech 2013の holotools社(6H-20)ブースにて出展します。
ブース位置はドイツパビリオン内ですが、会場フロアMAPにはドイツパビリオン内の詳細の記載がありませんでしたので、詳細MAPを掲載します。

会場フロアMAP: http://www.nanotechexpo.jp/pdf/floormap2013_j.pdf

ドイツパビリオン詳細MAP: