6th Industrial Symposium on Nanoimprint Lithography

シンガポール国家材料工学研究所(IMRE)主催で5/23(水)にシンガポールで開催される「6th Industrial Symposium on Nanoimprint Lithography」のプログラムの追加情報です。

日 時 : 2012年5月23日(水) 9:00~16:00
会 場 : Seminar Room 1 Institute of Materials Research and Engineering
参加費 : free
弊社講演:14:00 A Large Scaled Moth-Eye Film Development and Its Application

参加の申し込みやお問い合わせは弊社にご連絡いただくか、下記URLからお願いします。
http://www.imre.a-star.edu.sg/events.php?id=B531O538N534

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