5/21(火)に電子ジャーナル主催「Electronic Journal 第1711回 Technical Seminar モスアイ型反射防止膜の基礎と応用★徹底解説 ～反射防止膜の各種形成法・大面積化・応用を詳解～」セミナーにおきまして、「大面積モスアイ構造形成技術とその応用」をテーマに講演いたしまします。

日　時：2013年5月21日（火）10:10-16:40
受講料：47,500円（テキスト代/昼食代/消費税含む）
定　員：20名
会　場：連合会館（東京・御茶ノ水）／地図
●JR
JR中央線・総武線　御茶ノ水駅　聖橋出口
●地下鉄
東京メトロ千代田線　新御茶ノ水駅　B3出口
東京メトロ丸の内線　淡路町駅　　　B3出口
都営地下鉄新宿線　　小川町駅　　　B3出口
詳　細：http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/1711.html