【2014/7/11】ナノインプリント講演予定
7月11日に開催予定でしたが、主催社の都合により9月2日に変更となりました。
日 時：2014年9月2日（火）13:30～16:50
受講料：39,800円（テキスト代/喫茶代/消費税含む）
会 場：連合会館（東京・御茶ノ水）／地図
＜東京メトロ・千代田線＞「新御茶ノ水」駅下車。 B3出口（徒歩0分）
＜東京メトロ・丸ノ内線＞「淡路町」駅下車。B3出口 （B3出口まで徒歩5分）
＜都営地下鉄・新宿線＞「小川町」駅下車。B3出口 （B3出口まで徒歩3分）
＜JR中央線・総武線＞「御茶ノ水」駅下車。 聖橋口（徒歩5分）
定 員：30名
詳 細：http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/2314.html
本セミナーのマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
新規スタンダード金型として、有機EL等の光取出し構造として活用頂ける2種類の販売を予定しています。
詳細は、後日リリースしますが、下記のような構造となります。
①正弦波形状の線上格子
②正弦波形状の交差格子
その他のマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
7月11日に電子ジャーナル主催にて開催されます「Electronic Journal 第2314回 Technical Seminar」セミナーにおきまして、「生体模倣・その効果とデバイス/フィルムへの応用」をテーマに講演いたしまします。
日 時：2014年7月11日（金）13:30～16:50
受講料：39,800円（テキスト代/喫茶代/消費税含む）
会 場：連合会館（東京・御茶ノ水）／地図
＜東京メトロ・千代田線＞「新御茶ノ水」駅下車。 B3出口（徒歩0分）
＜東京メトロ・丸ノ内線＞「淡路町」駅下車。B3出口 （B3出口まで徒歩5分）
＜都営地下鉄・新宿線＞「小川町」駅下車。B3出口 （B3出口まで徒歩3分）
＜JR中央線・総武線＞「御茶ノ水」駅下車。 聖橋口（徒歩5分）
定 員：30名
詳 細：http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/2314.html
本セミナーのマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
日経エレクトロニクス3月17日号にてナノインプリントについての特集が組まれています。「ナノインプリントに新風大面積化で用途も拡大」のテーマで大面積化に焦点を当てた内容になっています。弊社も取材を受け一部記事に取り上げられています。各社のナノインプリントに関する動向が分かりやすく解説されています。
7月のセミナー講演は加飾フィルム関連で機能性フィルムとナノインプリントフィルムについてを講演する予定となります。大阪での開催となりますが、ご検討いただければと思います。
Ｒ＆Ｄ支援センター主催にて開催されます「プラスチック表面への3次元加飾技術」セミナーにおきまして、第2部として「プラスチック加飾に向けた高機能フィルムの開発」をテーマに講演いたしまします。
日 時：2013年7月10日（水）10:30-16:00
受講料：49,980円 （税込、昼食・資料付き）
会 場：ドーンセンター 4F 大会議室3 【大阪・中央区】／地図
<京阪>「天満橋」駅下車。東口方面の改札から地下通路を通って１番出口より東へ約350m。
<地下鉄谷町線>「天満橋」駅下車。１番出口より東へ約350m。
<JR 東西線>「大阪城北詰」駅下車。２番出口より土佐堀通り沿いに西へ約550m。
詳 細：http://www.rdsc.co.jp/seminar/130726.html
会場が変更になりました。
5/21に開催されました電子ジャーナル社主催セミナーに参加いただきまして誠に有難うございました。
6月にもセミナー講演の予定があり、今回は大阪での開催となりますが、ご検討いただければと思います。
6/13(木)にＲ＆Ｄ支援センター主催にて開催されます「有機ＥＬの技術動向と光取り出し向上技術 」セミナーにおきまして、第3部として「ナノインプリントを用いた微細加工技術による有機ELの光取り出し向上」をテーマに講演いたしまします。
日 時：2013年6月13日（木）10:00-16:00
受講料：49,980円 （税込、昼食・資料付き）
会 場：エル大阪 5F 504【大阪・中央区】／地図
<京阪>地下鉄谷町線「天満橋駅」より西へ300m
<京阪>地下鉄堺筋線「北浜駅」より東へ500m
<地下鉄>御堂筋線「淀屋橋駅」より東へ1,200m
<JR>東西線「大阪天満宮駅」より南へ850m
詳 細：http://www.rdsc.co.jp/seminar/130620.html
弊社ブースにお立ち寄りいただき、誠にありがとうございました。
皆様のおかげをもちまして盛況のうちに執り行うことができましたことを心よりお礼申し上げます。
新たな光取出し構造のスタンダード化も検討しておりますので、詳細が決まりましたらご案内致します。
また、5月頃にモスアイに関するセミナー講演を予定しています。こちらも詳細が決まりましたらご案内致します。
ブース設営が完了しました。
反射防止機能や光取出し機能についてやナノインプリント金型・フィルムについての課題などありましたら、弊社ブース（小間番号：6H-20)にお立ち寄り下さい。
2013年1月30日(水)～2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されますnano tech 2013の holotools社（6H-20）ブースにて出展します。
ブース位置はドイツパビリオン内ですが、会場フロアMAPにはドイツパビリオン内の詳細の記載がありませんでしたので、詳細MAPを掲載します。
会場フロアMAP： http://www.nanotechexpo.jp/pdf/floormap2013_j.pdf
ドイツパビリオン詳細MAP：
2013年1月30日(水)～2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されます「nano tech 2013 第12回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会」に出展致します。
微細構造付与による機能向上効果などで注目を集めるナノインプリント。弊社イノックスは世界屈指の技術力を有するパートナーと提携し、業界をリードするナノ~マイクロの微細構造研究開発を積極的に行なっております。光の透過率を落さずに光を拡散させる構造、反射防止性能構造、光の集光及び取り出し構造などのモールド大面積化、フィルムやシートの量産化などをご提案。ナノ~マイクロ構造を用い、市場の要求仕様に応えた「コンセプトモデル」の展示を予定しております。
ナノ・マイクロ構造をご検討中、もしくは具体的な要求仕様などございましたら、是非、弊社ブースまでご来場いただき是非ご相談下さい。
