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セミナー ナノインプリント 機能性フィルム

8月ナノインプリント講演予定

8月にナノインプリントに関するセミナーの講演を予定しております。

題 名:LED照明の均一面発光に向けた 輝度向上・光拡散技術とムラ軽減
内 容:LED照明の拡散フィルムへのナノインプリントの応用開発
主 催:株式会社技術情報協会
日 時:2012年8月31日(金)10:15~16:40
受講料:1名につき63,000円(消費税込み・昼食、資料付き) 
    ※1社2名以上同時申込の場合1名につき57,750円
会 場:[東京・王子]北とぴあ8F 802会議室

詳細・申し込み:http://www.gijutu.co.jp/doc/s_208408.htm

セミナー ナノインプリント

7月ナノインプリント講演予定

株式会社イノックスは、来る7/26に技術情報協会主催「ナノインプリントによる光取出し/反射防止加工技術」セミナーにおきまして、「ナノインプリントによる反射防止加工フィルムの作製と有機ELへの応用技術」をテーマに講演いたしまします。

日時:2012年7月26日(木)10:00-17:10 
受講料:1名63,000円(消費税込、昼食付き・資料付) *1社2名以上同時申込の場合、1名につき57,750円
    講師紹介割引きもありますので、弊社までお問い合わせ下さい。
会場:[東京・王子] 北とぴあ 9F 901会議室

申し込み・詳細:http://www.gijutu.co.jp/doc/s_207402.htm

セミナー ナノインプリント

6月ナノインプリント講演予定その2

 6/14に開催されましたわれました情報機構主催の「ナノインプリント量産・応用・最新動向徹底解説」セミナーが好評のうちに終了いたしました。3時間の長丁場でしたが、ご参加くださった皆様には御礼申し上げます。今回はナノインプリント全般について解説を行い、応用例としてモスアイ構造による反射防止機能やマイクロレンズアレイとモスアイ構造にようる有機ELの輝度向上機能などについても講演いたしました。講演の最後には、モスアイやマイクロレンズの転写サンプルを実際に見ていただく機会を設けさせていただきました。

 

来週になりますが、ナノインプリントセミナーの講演を予定しております。来る6/27に技術情報協会主催の「タッチパネルの視認性・使用感を改善するフィルム・コーティング技術 」セミナーにおきまして、「モスアイ構造フィルムの反射防止効果とタッチパネルへの応用」をテーマに講演いたしまします。
モスアイフィルムのサンプルを持参しますので、どのようなものかを見て体感して頂ければと思います。まだまだ申し込み可能とのことですので、よろしくお願いします。講師紹介割引きもありますので、弊社までお問い合わせ下さい。

日時:平成24年6月27日(水) 12:30~17:15
          28日(木) 10:00~17:15
受講料:1名につき 84,000円(消費税込み、昼食【2日目のみ】・資料付)
   〔1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき78,750円〕
会場:[東京・五反田] ゆうぽうと 5F くれない西

申し込み・詳細:http://www.gijutu.co.jp/doc/s_206207.htm

セミナー ナノインプリント

6月ナノインプリント講演予定(会場変更あり)

株式会社イノックスは、来る6/14に情報機構主催「ナノインプリント量産・応用・最新動向徹底解説」セミナーにおきまして、「~ナノ構造の魅力と機能・量産化要素技術~」をテーマに講演いたしまします。

 

日時:2012年6月14日(木)12:30-16:30 
受講料:1名39,900円(税込、資料付) *1社2名以上同時申込の場合、1名につき29,400円
    講師紹介割引きもありますので、弊社までお問い合わせ下さい。
会場:[東京・東陽町]江東区産業会館 2階第一会議室 *会場が変更になりました。

より大きな地図で 江東区産業会館 を表示
〒135-0016  東京都江東区東陽4-5-18
●地下鉄 東西線 東陽町駅下車 4番出口右隣り
●都バス 錦糸町駅 ←→ 東京駅北口(東陽町駅)(東22)東陽町駅下車
錦糸町駅 ←→ 門前仲町(都07)東陽町駅下車
亀戸駅 ←→ 東陽町駅(亀21)東陽町駅下車
東大島駅 ←→ 東陽町駅・門前仲町(門21)東陽町駅下車
※駐車場・駐輪場はありません。

申し込み・詳細:http://www.johokiko.co.jp/seminar_chemical/AC120653.php

セミナー ナノインプリント

6th Industrial Symposium on Nanoimprint Lithography

シンガポール国家材料工学研究所(IMRE)主催で5/23(水)にシンガポールで開催される「6th Industrial Symposium on Nanoimprint Lithography」のプログラムの追加情報です。

日 時 : 2012年5月23日(水) 9:00~16:00
会 場 : Seminar Room 1 Institute of Materials Research and Engineering
参加費 : free
弊社講演:14:00 A Large Scaled Moth-Eye Film Development and Its Application

参加の申し込みやお問い合わせは弊社にご連絡いただくか、下記URLからお願いします。
http://www.imre.a-star.edu.sg/events.php?id=B531O538N534

セミナー ナノインプリント

5月ナノインプリントセミナー講演予定

5/30に電子ジャーナル主催のElectronic Journal 第1263回 Technical Seminarにおきまして、「モスアイ型反射防止膜の基礎と応用★徹底解説~反射防止膜の各種形成法・大面積化・応用を詳解~」をテーマに講演いたしまします。

詳細は下記ニュースリリースを参照して下さい。
http://www.innox.co.jp/news/2012/news11.html

イノックスで取り扱っておりますモスアイについての量産化技術や効果のメカニズム、用途について解説する予定です。
また、フィルムサンプル等を持参し実際の効果をデモンストレーションすることも企画しております。

セミナー ナノインプリント

3月ナノインプリントセミナー講演予定

3/21に情報機構主催「ナノインプリント技術」セミナーにおきまして、「~光学フィルム他光学デバイスへの展開の実際と量産化・発展の可能性~」をテーマに講演いたしまします。

詳細は下記ニュースリリースを参照して下さい。

http://www.innox.co.jp/news/2012/news07.html

イノックスで取り扱っておりますモスアイ・マイクロレンズ・配光拡散構造についての性質や用途について解説する予定です。

また、フィルムサンプル等を持参し実際の効果をデモンストレーションすることも企画しております。

セミナー ナノインプリント

『有機ELの光取り出し効率向上技術』セミナーを実施しました

本日は、技術情報協会主催の「有機ELの光取り出し効率向上技術」セミナーにて「ナノインプリントによる反射防止加工フィルムの作製と有機ELへの応用技術」のテーマで講演を行いました。
講演内容は、有機ELへの応用可能なナノインプリント技術について紹介しました。最表面に貼り合せる事で光取り出し効率の向上が可能なマイクロレンズアレイとモスアイ構造を中心に紹介しました。

 

 

 

 

 

 

本セミナーのマイクロレンズアレイやモスアイ構造については、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
01ナノインプリント事業部