Category Archives: ナノインプリント

セミナー ナノインプリント

5月ナノインプリント講演予定

5/21(火)に電子ジャーナル主催「Electronic Journal 第1711回 Technical Seminar モスアイ型反射防止膜の基礎と応用★徹底解説 ~反射防止膜の各種形成法・大面積化・応用を詳解~」セミナーにおきまして、「大面積モスアイ構造形成技術とその応用」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年5月21日(火)10:10-16:40
受講料:47,500円(テキスト代/昼食代/消費税含む)
定 員:20名
会 場:連合会館(東京・御茶ノ水)/地図
●JR
JR中央線・総武線 御茶ノ水駅 聖橋出口
●地下鉄
東京メトロ千代田線 新御茶ノ水駅 B3出口
東京メトロ丸の内線 淡路町駅   B3出口
都営地下鉄新宿線  小川町駅   B3出口
詳 細:http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/1711.html

 

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013

弊社ブースにお立ち寄りいただき、誠にありがとうございました。
皆様のおかげをもちまして盛況のうちに執り行うことができましたことを心よりお礼申し上げます。

新たな光取出し構造のスタンダード化も検討しておりますので、詳細が決まりましたらご案内致します。
また、5月頃にモスアイに関するセミナー講演を予定しています。こちらも詳細が決まりましたらご案内致します。

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013開幕


メイン通り沿いのオレンジ色のカーペットが目印です。
是非ともお立ち寄りください。

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013前日


ブース設営が完了しました。
反射防止機能や光取出し機能についてやナノインプリント金型・フィルムについての課題などありましたら、弊社ブース(小間番号:6H-20)にお立ち寄り下さい。

 

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013出展のお知らせ②

2013年1月30日(水)~2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されますnano tech 2013の holotools社(6H-20)ブースにて出展します。
ブース位置はドイツパビリオン内ですが、会場フロアMAPにはドイツパビリオン内の詳細の記載がありませんでしたので、詳細MAPを掲載します。

会場フロアMAP: http://www.nanotechexpo.jp/pdf/floormap2013_j.pdf

ドイツパビリオン詳細MAP:

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013出展のお知らせ

2013年1月30日(水)~2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されます「nano tech 2013 第12回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会」に出展致します。

  • 日時:2013年1月30日(水) ~2月1日(金) 10:00 ~ 17:00
  • 会場:東京ビッグサイト東4・5・6ホール&会議棟
  • 入場料:3,000円(但し、Webサイトで事前登録された方は入場無料)
  • 公式ホームページ:http://www.nanotechexpo.jp/
  • 弊社ブース:東6ホール ドイツパビリオン内 6H-20
    ※ブース位置の詳細はちら

出展のみどころ

微細構造付与による機能向上効果などで注目を集めるナノインプリント。弊社イノックスは世界屈指の技術力を有するパートナーと提携し、業界をリードするナノ~マイクロの微細構造研究開発を積極的に行なっております。光の透過率を落さずに光を拡散させる構造、反射防止性能構造、光の集光及び取り出し構造などのモールド大面積化、フィルムやシートの量産化などをご提案。ナノ~マイクロ構造を用い、市場の要求仕様に応えた「コンセプトモデル」の展示を予定しております。

ナノ・マイクロ構造をご検討中、もしくは具体的な要求仕様などございましたら、是非、弊社ブースまでご来場いただき是非ご相談下さい。

 

ナノ・マイクロ構造

  • 反射防止機能(モスアイ構造)
  • マイクロレンズ構造
  • 有機EL光取出し効率向上
  • 太陽電池集光効率向上
  • ライトガイド・プレート
  • カスタマイズ設計構造
セミナー ナノインプリント 展示会

2013年1月の展示会・セミナー

2012年2月に当ブログ開設しましたが、多くの方に訪問頂きありがとうございました。ナノインプリントについての記事を掲載させていただきました。来年も引き続きよろしくお願いします。

 

2013年もnano tech 2013に出展します。今回はドイツのholotools社と共同で出展しますので、場所はドイツパビリオン内となります。お気軽に足をお運びください。
今回の展示会よりビジネスマッチングシステムが設けられることになりました。詳細は下記URLを参照ください。
http://www.nanotechexpo.jp/icsbizmatch_nanotech.html

 

また、1/25(金)に講演を予定していましたセミナーの開催が確定しました。受講者は引き続き募集しておりますので、参加をご検討下さい。講師紹介割引きのご紹介も可能ですので、弊社までお問い合わせください。
セミナー詳細⇒1月ナノインプリント講演予定

ナノインプリント

有機ELの光取出し③

前回(有機ELの光取出し②)の続きとなります。

前回は、モスアイ構造による段階的な屈折率変化について解説を行いました。それを踏まえて、モスアイ構造による『臨界角』への影響を説明します。モスアイ構造による反射率低減のメカニズムは、『屈折率が徐々に増加していく多層膜』として説明しました。臨界角についてもこの『屈折率が徐々に増加していく多層膜』として置き換えて、モスアイによる影響を説明します。

 


臨界角とは射出角が90°となる角度で、入射角が臨界角以上の場合は全反射が発生することを前々回(有機ELの光取出し①)で説明しました。
屈折率の差がわずかでもあれば、計算式より臨界角は存在することになります。屈折率の差が0.001であったとしても、臨界角は87.4°となり、87.4°より大きな角度の入射角の光は、空気中へ抜け出せないことになります。

 


次に、もう1層追加された場合を説明します。各層の界面では、n=1.1と空気の界面では臨界角が65.4°、n=1.2とn=1.1の界面では臨界角が66.4°となります。n=1.2からn=1.1への媒質へ入ることができた光は、空気との界面で全反射する成分があるため、全てが透過できるわけではありません。
n=1.1と空気層の臨界角θ1より、n=1.2とn=1.1の界面での出射角θ4が大きい場合には、全反射が発生し透過できなくなります。一方、出射角θ4が臨界角θ1より小さな場合は、透過できることになります。
この2層のケースでは、入射角θ3の空気層まで透過する臨界角は、n=1.2とn=1.1の界面での臨界角に比べ小さくなります。つまり、θ3の臨界角は上層の臨界角に支配されることとなります。

 


最後にモスアイ構造の場合ですが、『屈折率が徐々に増加していく多層膜』ですので2層でのケースに層を足していった状態となります。考え方は同じで上層の臨界角によって下層の臨界角が決まっていきます。
通常の臨界角の計算では出射角を90°として計算しますが、層中での臨界角は出射角を上層の臨界角に設定して計算します。5層のケースでは最終的に臨界角は41.8°となり、屈折率1.5の単層と空気層の界面の臨界角と一致します。
層数を100層や1000層に細分化したとしても、臨界角は同じ計算結果となります。滑らかな屈折率変化が起きるモスアイ構造においても同様の現象が起きていると考えられます。

結論としては、モスアイ構造が最表面にあったとしても、臨界角は変化しないことになります。

 

イノックスでは、有機ELの光取出しに関連するナノインプリント金型やフィルムサンプル(基材:PET、ガラスなど)を取り扱っております。どうぞお気軽にお問い合わせください。

セミナー ナノインプリント

1月ナノインプリント講演予定

1/25(金)にサイエンス&テクノロジー主催「反射防止フィルムの設計・要求特性と高機能化技術 ~防汚・耐指紋性・モスアイ技術~」セミナーにおきまして、「モスアイ構造による反射防止フィルムの高機能化技術」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年1月25日(金)11:00-16:30
受講料:1名47,250円(消費税込、昼食付き・資料付)
*同一法人申し込みの場合複数人割引きあり
会 場:東京・大田区平和島 東京流通センター 2F  第3会議室
<東京モノレール> 「流通センター駅」すぐ
詳 細:http://www.science-t.com/st/cont/id/20752

ナノインプリント 機能性フィルム

イノックスHP微ニューアル

機能性フィルム事業のHPを僅かですが改装しました。